劉德音首先感謝現場來賓，一起慶祝研發中心的開幕，希望大家一起見證台積電「根留台灣」持續推動半導體，往前邁進，也驅動未來世界科技創新的決心。感謝創辦人張忠謀36年前讓台積公司在台灣這塊土地上誕生，經過多年努力耕耘，已成為業界的領導者。
劉德音提到台積研發歷史回溯到30多年前，1987年台積在工研院電子所設立研發，1990建設廠房後遷到台積二廠；1996年進入台積三廠；2003年進入台積12廠，幾乎是逐水草而居，但12廠待了20年，今天嶄新的全球研發中心啟用後將更積極開發領導世界半導體產業的技術，探索1.4奈米甚至以下的技術。
劉德音表示這個研發中心已經在5年多以前就開始策畫，設計和施工的落成有很多巧思，有超高屋頂、迴轉迴廊，和具有可塑性的工作空間。R&D同仁過去30多年來面對半導體技術不斷演進要求，秉持務實、創新的態度和基層團結精神，能夠持續創造高經濟價值技術，這社會和人類世界產生很深遠的影響，R&D Center中，期許THMC同仁文化在這裡更發揚光大，「它將是匯集全球研發人才，共同釋放強大釋放力量的地方」。
劉德音也對R&D同仁說，R&D從2003年遷入台積12廠，開發90 nanometer technology，20年後的今天，45分之一開發的2奈米的technology，「我們在這個研發中心至少要待20年以上吧」才值回票價，「20年後台積公司會開發什麼技術呢？半導體元件的大小會是多少呢？用什麼新材料？光電運算如何整合？」劉德音表示今天搬進的R&D同仁「將會給出答案。」並且找出能夠大量生產的方法。
劉德音說，這座研發中心啟用代表台積公司研發創新的傳統和決心，未來將持續攜手和台積公司創新平台合作夥伴們、客戶們、供應商們，和全球學術界一起開發出更先進而更有競爭力的半導體技術，「為世界創造出更美好的未來。」
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