半導體微影設備廠艾司摩爾（ASML）執行長韋尼克（Peter Wennink）將於4月24日退休，監事會擬任命福克（Christophe Fouquet）為下一任總裁暨執行長，這項任命將於2024年4月24日召開的年度股東大會中發送通知。
市場傳出，韋尼克和福克近日將率團來台，拜訪台積電（2330）等供應鏈夥伴，隨後並將前往韓國等地。ASML因正處緘默期，對這消息並無回應。
法人認為，ASML這次高層前來亞洲是例行性拜訪，並與台積電等供應鏈討論未來合作事宜。考量設備開發過程中應與主要客戶共同合作研發，並非獨立製造，因此客戶若無需求，並不會有產品推出，ASML高層來台目的應不是為了催促客戶下單高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）設備。
針對英特爾（Intel）搶先導入High-NA EUV設備一事，法人認為，英特爾目前製程技術落後台積電，積極導入高階設備企圖超車為合理作法，但設備領先不代表製程領先。
法人表示，晶圓代工廠主要是為客戶提供穩定且性價比高的製程，台積電2奈米製程將於2025年量產，採用環繞閘極（GAA）結構，2026年提供背面電軌方案，預期應可穩定提升電晶體密度以滿足客戶需求。
（中央社）
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