檢共提出三波起訴 拍攝數百張照片竊取機密
檢方前後共提出三波起訴。第一波偵結二奈米洩密案,求處主嫌陳力銘14年有期徒刑、吳秉駿9年、戈一平7年;第二波追加起訴東京威力科創台灣子公司,建請科處1.2億元罰金;第三波偵結14奈米洩密案,則求處陳力銘7年、陳韋傑8年8月,東京威力科創罰金2500萬元,盧怡尹涉滅證求刑1年。
檢方調查發現,陳力銘原為台積電12廠良率部門工程師,離職後跳槽至東京威力科創台灣子公司,擔任行銷及產品經理。為提升新東家蝕刻機台良率,他於2023年間,透過清華大學學弟吳秉駿及同僚戈一平,刺探二奈米製程機密。兩人以筆電登入內網後,陳力銘再用手機翻攝廠商測試數據,前後拍攝數百張照片,其中14張經鑑定已觸及國家核心關鍵技術。
內鬼一連串 東京威力台灣子公司高層還涉滅證
後續檢調又挖出其他內鬼,陳力銘坦承另勾結台積電在職工程師陳韋傑,共同竊取「14奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」,該技術同樣經經濟部核定為國家核心關鍵技術營業秘密。
檢調去年11月10日搜索時,發現台積電竊密案爆發後,東京威力科創台灣子公司高階主管盧怡尹涉嫌刪除陳力銘傳送的雲端資料,且公司雲端硬碟仍留存相關機密,因而二度起訴該公司並求處2500萬元罰金。
今(27)日智財法院一審宣判,陳力銘遭判刑10年,吳秉駿依營業秘密法判1年6月、國安法2年。戈一平營業秘密2年、陳韋傑6年;盧怡尹10月、緩刑3年,保護管束支付100萬元、法治教育6場。東京威力公司則判1.5億、緩刑3年,分別支付台積電1億,公庫5000萬。
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