根據路透社（Reuters）引述《The Information》報導，知情人士透露，這些中國國產的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機，預計將於今年交付給中芯國際（SMIC）、華虹半導體及長鑫存儲等中國指標性晶片製造商。受此消息影響，艾司摩爾（ASML）股價下跌了4.6%。
由於此項技術發展極具敏感性，消息來源並未透露這家背後有國家資金支持的製造商名稱。報導指出，雖然這項技術突破未來可能在中國市場對ASML構成挑戰，但目前該系統在性能與可靠性上仍落後，在大規模量產前還需要進行更多測試，因此ASML目前的競爭優勢暫時不受影響。
此外，國產DUV曝光機的初期產量將非常有限，預計今年僅能生產約5台，到2027年則預估可達到約20台。在西方國家限制中國取得更先進的極紫外光（EUV）曝光機後，浸潤式DUV曝光機已是中國晶片廠目前能取得的最先進曝光工具。雖然中國也正在研發國產EUV曝光機，但目前仍處於原型階段。
隨著美國考慮對中國實施更嚴格的曝光設備出口與售後服務限制，這項國產技術的進展，可望為中國晶片製造商在面臨地緣政治壓力時，提供關鍵設備的替代來源。
