聯電通過324億元資本預算 擴建南科及新加坡廠
(圖/擷取自Google Maps)

聯電董事會今天通過資本預算執行案,預計投資金額達新台幣324.17億元,將主要用於建置南科晶圓12A廠P6廠區及新加坡P3廠。

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聯電(2303)指出,南科晶圓12A廠P6廠區與新加坡P3廠共計將投資100億美元,逾新台幣3000億元,將於3、4年內完成投資。

其中,新加坡P3廠位於白沙晶片園(Pasir Ris Wafer Park),預計2025年量產,以22奈米及28奈米製程生產。因缺工缺料及機台交期長的影響,量產時程將較原先規劃的2024年底延遲超過1季時間。

聯電表示,南科晶圓12A廠P6廠區與新加坡P3廠投資金額將以自有資金支應,並不會對未來股利發放造成影響,將維持穩定配發率。

(中央社)

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