即時中心／熊家瑜報導全球晶片戰方興未艾，就有消息傳出，中國已開始量產自主研發的浸沒式深紫外光（DUV）微影設備；這項技術是先進晶片製造的重要關鍵，象徵北京在降低對外國技術依賴方面邁出重要一步。此一發展被視為中國推動半導體自主化的重要成果，也是中國國家主席習近平在半導體產業的政策目標；但摩根大通分析師在昨（28）日釋出的報告中，對中國半導體自主持保守審慎態度。