快新聞／衝擊全球半導體？傳中國量產自研DUV設備　摩根大通一針見血「評這句」

即時中心／熊家瑜報導

全球晶片戰方興未艾，就有消息傳出，中國已開始量產自主研發的浸沒式深紫外光（DUV）微影設備；這項技術是先進晶片製造的重要關鍵，象徵北京在降低對外國技術依賴方面邁出重要一步。此一發展被視為中國推動半導體自主化的重要成果，也是中國國家主席習近平在半導體產業的政策目標；但摩根大通分析師在昨（28）日釋出的報告中，對中國半導體自主持保守審慎態度。

傳中國已開始量產DUV設備　外媒揭露「一年僅5台」

根據《路透社》（Reuters）報導，知情人士透露，中國已開始量產自主研發的浸沒式深紫外光微影設備（Deep Ultraviolet Lithography Machine），北京推動半導體自主化再跨出重要一步。這項量產計畫由鮮少曝光的中國國有企業「上海愛生納電子科技集團」（Aishengna）主導，並整合多家中國微影設備公司（包含上海宇量昇科技等）的技術團隊；預計今（2026）年將生產約5台設備，明（2027）年提升至約20台。

浸沒式DUV微影技術是在投影鏡頭與矽晶圓之間加入一層水，以印製比傳統乾式系統更細微的電路圖案，簡單說就是把電路圖案曝光至矽晶圓。該設備除可生產各類晶片外，也可透過「多重曝光（Multiple Patterning）」技術製造更先進的半導體，但需對同一層電路反覆曝光，因此製程成本與生產複雜度也相對提高。

據悉，美國已禁止中國採購ASML最先進的極紫外光（EUV）微影設備，荷蘭政府近年也陸續限制部分高階DUV設備出口中國。《路透社》去年12月也曾報導，中國已成功打造EUV微影設備原型機，但距離正式量產仍需數年時間。

DUV設備並非業界最先進　摩根大通評中國「少量不代表規模量產」

DUV微影設備是晶片製造的重要設備，全球市場長期由荷蘭半導體設備大廠ASML主導。雖然中國開始生產DUV的消息釋出後一度衝擊ASML股價，但市場分析師普遍認為，中國目前僅具備少量生產DUV設備的能力，距離支援晶圓廠大規模量產仍有相當差距，因此短期內不太可能對ASML的營運與獲利造成實質影響。

摩根大通分析師則在28日的報告中指出：「能夠生產少量浸沒式DUV設備，並不代表已具備大規模量產能力。真正關鍵的是良率、套準精度（Overlay）、產能（Throughput），以及設備在數千次晶圓製程中的可靠性。」